微納光學(xué)中精細的結(jié)構(gòu)構(gòu)成對制版提出了極為嚴格的需求，與此同時，不同形貌、不同特征尺寸、材料等，也對制版工藝提出了不同的要求。鯤游光電擁有國際一流的制版設(shè)備與工藝，可以滿足多種高精度制版與母版加工處理要求。鯤游光電可以為客戶提供多樣的母版定制服務(wù)：
① 尺寸方面：從幾平方mm的試樣到標準6寸、8寸、12寸盤；
② 材料方面：提供硅片、SOI、玻璃、石英、聚合物等多種材料；
③工藝方面：根據(jù)客戶的精度、時間、成本要求，提供電子束、刻蝕、激光直寫、大規(guī)模集成電路工藝等多種選擇，實現(xiàn)從10nm特征尺寸到數(shù)百um，從單層結(jié)構(gòu)到多層（8層、16層等）到連續(xù)形貌復(fù)雜結(jié)構(gòu)。
根據(jù)客戶的后道工序，鯤游光電也可以提供客制的母版處理服務(wù)，包括母版濺射、母版轉(zhuǎn)金屬版（如鎳板）、以及母版防粘（基于鯤游獨有的工藝，可以為母版生成<1nm的防粘層，完美保型，讓下道納米壓印ready-to-go）等。 鯤游光電可以為客戶提供的制版工藝包括：
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電子束加工
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電子束（eBeam）加工技術(shù)，采用電磁場將電子束聚焦成微細束照射至電子抗蝕劑上，由于電子束可以方便的由電磁場進行偏轉(zhuǎn)掃描，復(fù)雜的圖形可以直接寫到感光膠上而無須使用掩膜板。與其他光刻技術(shù)相比，電子束光刻的優(yōu)點非常明顯： 首先，電子束光刻分辨率高，可達幾十納米，如直接進行刻蝕可達到幾個納米。其次，電子束光刻不需要掩膜板，非常靈活，很適合小面積、打樣、工藝驗證等特殊期間的生產(chǎn)。
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通過電子束技術(shù)，鯤游光電可以為客戶提供分辨率極高（幾十納米）的母版加工。綜合考慮電子束技術(shù)的精度、時間消耗、成本等因素，鯤游通常運用電子束工藝為客戶進行打樣服務(wù)，可以在很短的交貨期，高效的驗證設(shè)計，多次迭代。
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離子束加工
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離子束光刻分為聚焦離子束曝光(FIB)、掩膜離子束光刻(MIB)和離子束濺射光刻(IBP)。離子束光刻利用離子源進行曝光。其發(fā)射面積極小，可以較容易的利用離子光學(xué)系統(tǒng)將發(fā)射離子聚焦成微細離子束，進行高分辨率離子束曝光。聚焦離子束曝光與電子束曝光相比有一些突出的優(yōu)點：1) 鄰近效應(yīng)可忽略， 因離子比電子重的多。電子質(zhì)量極輕，在抗蝕劑中的散射范圍大，影響鄰近電路形的曝光質(zhì)量；2)感光膠對離子束的靈敏度要比電子束高數(shù)百倍。但聚焦離子束曝光也有一些弱點：1) 分辨率比電子束低， 因為離子束中的離子能量分散，使聚焦受到限制：2) 離子質(zhì)量大，在光刻膠中的曝光深度較小。
- 通過離子束技術(shù)，鯤游光電可以為客戶提供精細光柵、特殊齒形光柵母版的加工。具體加工要求，敬請來電垂詢。
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激光直寫
- 激光直寫是利用強度可變的激光束對基片表面的抗蝕材料實施變劑量曝光，顯影后在抗蝕層表面形成所要求的浮雕輪廓。激光直寫系統(tǒng)的基本工作原理是由計算機控制高精度激光束掃描，在光刻膠上直接曝光寫出圖形，進而把圖形直接轉(zhuǎn)移到掩模上。
- 鯤游光電擁有激光直寫光刻線。通過激光直寫，以及與其他工藝的有機結(jié)合（如VLSI工藝），鯤游光電可以實現(xiàn)大面積2D高精度掩模版加工、多臺階二維光柵加工、高深寬比的球面與非球面陣列、復(fù)眼透鏡等3D微納形貌的加工。
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單點金剛石加工
- 單點金剛石加工技術(shù)是用精密數(shù)控車床和天然單晶體金剛石作刀具，在計算機控制下進行加工。由于金剛石的硬度高，耐磨性強，導(dǎo)熱性優(yōu)越，因此，金剛石刀具的刃口可以非常鋒利（刃口半徑可以小于0.05微米甚至更?。?/span>
- 單點金剛石加工適用于光學(xué)透鏡類、自由曲面、以及大尺度（>100微米）的球面與非球面陣列加工。
